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        濕電子化學品:以純度立足的半導體產業核心產品

        發布日期:2023-04-27

        濕電子化學品是歐美及我國臺灣地區的稱呼(更為普遍),國際上又稱工藝化學品,我國習慣稱其為超凈高純試劑,其是超大規模集成電路、平板顯示、太陽能電池等制作過程中不可缺少的關鍵性基礎化工材料之一。其主體成分純度大于 99.99%,雜質離子和微粒數符合嚴格要求的化學試劑,是重要的晶圓制造材料之一,2020 年市場規模占比 4%。主要以上游硫酸、鹽酸、氫氟酸、氨水、氫氧化鈉、氫氧化鉀、丙酮、乙醇、異丙醇等為原料,經過預處理、過濾、提純等工藝生產得到的高純度產品。下游應用主要為光伏太陽能電池、平板顯示和半導體三大領域,主要應用在集成電路制造的清晰、蝕刻、摻雜、顯影、晶圓表面處理、去膜、去光刻膠等工序中。

         按照用途主要可以將濕電子化學品分為通用化學品和功能性化學品兩類。其中通用化學品以高純溶劑為主,例如過氧化氫、氫氟酸、硫酸、磷酸、鹽酸、硝酸等;功能性化學品指通過復配手段達到特殊功能、滿足制造中特殊工藝需求的配方類或復配類化學品,主要包括顯影液、剝離液、清洗液、蝕刻液等。由于多數功能濕化學品是復配的化學品,是混合物,它的理化指標很難通過普通儀器定量檢測,只能通過應用手段來評價其有效性,近幾年來功能濕化學品的需求比例明顯增加。簡單的理解就是復配產品,功能濕電子化學品指通過復配手段達到特殊功能、滿足制造中特殊工藝需求的復配類化學品,包括蝕刻液、清洗液、光刻配套試劑等,常用于半導體刻蝕、清洗等工藝中。

         常用的濕電子化學品以通用化學品為主,占比達到 88%,其中過氧化氫、氫氟酸和硫酸需求占比排名前三,占比分別達到 16.7%、16%和 15.3%;功能性化學品中主要為顯影液和 MEA 等極性溶液,占比達到了 4.3%和 3.2%。

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